【LOFIC】商标详情
- LOFIC
- 80521430
- 已初审
- 普通商标
- 2024-08-22
4209 , 4214 , 4216 , 4220 4209-为他人研究和开发新产品,
4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-多媒体产品的设计和开发,
4209-校准(测量),
4209-集成电路设计,
4214-电气工程领域的设备检测,
4216-多媒体产品的设计和开发,
4220-图像处理软件设计,
4220-多媒体产品的设计和开发,
4220-数据处理用计算机程序的开发和创建,
4220-软件设计和开发
4209-为他人研究和开发新产品;4209-光学组件的设计;4209-半导体加工技术研究;4209-多媒体产品的设计和开发;4209-校准(测量);4209-集成电路设计;4214-电气工程领域的设备检测;4216-多媒体产品的设计和开发;4220-图像处理软件设计;4220-多媒体产品的设计和开发;4220-数据处理用计算机程序的开发和创建;4220-软件设计和开发 - 1910
- 2024-11-06
- 思特威(上海)电子科技股份有限公司
- 上海市上海市************
- 深圳中一联合知识产权代理有限公司
2024-09-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-08-22 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2024-11-06 第1910期 查看公告
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4209 , 4214 , 4216 , 4220 4209-为他人研究和开发新产品,
4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-多媒体产品的设计和开发,
4209-校准(测量),
4209-集成电路设计,
4214-电气工程领域的设备检测,
4216-多媒体产品的设计和开发,
4220-图像处理软件设计,
4220-多媒体产品的设计和开发,
4220-数据处理用计算机程序的开发和创建,
4220-软件设计和开发
4209-为他人研究和开发新产品;4209-光学组件的设计;4209-半导体加工技术研究;4209-多媒体产品的设计和开发;4209-校准(测量);4209-集成电路设计;4214-电气工程领域的设备检测;4216-多媒体产品的设计和开发;4220-图像处理软件设计;4220-多媒体产品的设计和开发;4220-数据处理用计算机程序的开发和创建;4220-软件设计和开发 - 1910
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- 思特威(上海)电子科技股份有限公司
- 上海市上海市************
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