【CCW】商标详情
- CCW
- G1020480
- 已注册
- 普通商标
- 2009-12-30
0302 0302-用于收集和/或清除检测集成电路过程中生成的碎片的清洁制剂
0302-用于收集和/或清除检测集成电路过程中生成的碎片的清洁制剂 - 2019-11-06-2029-11-06
- Entegris， Inc.
- 马萨诸塞比尔里卡************
- 国际局
2024-04-28 国际转让 | 申请核准审核
2024-04-14 国际转让 | 申请收文
2019-12-17 国际续展 | 申请核准审核
2019-11-26 国际续展 | 申请收文
2010-05-20 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2010-05-11 领土延伸 | 审查
2009-12-30 领土延伸 | 申请收文
- CCW
- G1020480
- 已注册
- 普通商标
- 2009-12-30
0302 0302-用于收集和/或清除检测集成电路过程中生成的碎片的清洁制剂
0302-用于收集和/或清除检测集成电路过程中生成的碎片的清洁制剂 - 2019-11-06-2029-11-06
- Entegris， Inc.
- 马萨诸塞比尔里卡************
- 国际局
2024-04-28 国际转让 | 申请核准审核
2024-04-14 国际转让 | 申请收文
2019-12-17 国际续展 | 申请核准审核
2019-11-26 国际续展 | 申请收文
2010-05-20 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2010-05-11 领土延伸 | 审查
2009-12-30 领土延伸 | 申请收文
