【TEKSCEND PHOTMASK】商标详情
- TEKSCEND PHOTMASK
- 81393351
- 待审中
- 普通商标
- 2024-10-15
4006 , 4011 , 4015 4006-玻璃蚀刻,
4011-凸版印刷,
4011-印刷,
4015-半导体元件的定制生产,
4015-半导体器件的定制生产,
4015-半导体晶片的加工,
4015-半导体晶片的定制生产,
4015-半导体电路的定制生产
4006-玻璃蚀刻;4011-凸版印刷;4011-印刷;4015-半导体元件的定制生产;4015-半导体器件的定制生产;4015-半导体晶片的加工;4015-半导体晶片的定制生产;4015-半导体电路的定制生产 - 株式会社凸版光掩模
- 东京都东京************
- 北京安伦知识产权代理有限公司
2024-10-15 00:00:00 商标注册申请 | 申请收文
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- 81393351
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- 2024-10-15
4006 , 4011 , 4015 4006-玻璃蚀刻,
4011-凸版印刷,
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4015-半导体元件的定制生产,
4015-半导体器件的定制生产,
4015-半导体晶片的加工,
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