【PLASMABOX】商标详情
- PLASMABOX
- G1073217
- 已注册
- 普通商标
- 2011-04-30
4209 , 4216 4209-科学服务以及研究服务，即有关等离子流程、半导体产品、用于等离子辅助生产和处理流程的真空处理装置的设计、编制和分析,
4216-科学服务以及研究服务，即有关等离子流程、半导体产品、用于等离子辅助生产和处理流程的真空处理装置的设计、编制和分析
4209-科学服务以及研究服务，即有关等离子流程、半导体产品、用于等离子辅助生产和处理流程的真空处理装置的设计、编制和分析;4216-科学服务以及研究服务 ，即有关等离子流程、半导体产品、用于等离子辅助生产和处理流程的真空处理装置的设计、编制和分析 - 2021-03-25-2031-03-25
- Evatec AG
- 圣加仑州特吕巴赫************
- 国际局
2021-05-31 国际续展 | 申请核准审核
2021-05-09 国际续展 | 申请收文
2017-05-12 国际转让 | 申请核准审核
2016-11-03 国际转让 | 申请收文
2014-03-19 国际变更 | 申请核准审核
2011-11-23 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2011-11-23 领土延伸 | 审查
2011-09-07 商标注册申请 | 国际更正中
2011-04-30 领土延伸 | 申请收文
- PLASMABOX
- G1073217
- 已注册
- 普通商标
- 2011-04-30
4209 , 4216 4209-科学服务以及研究服务，即有关等离子流程、半导体产品、用于等离子辅助生产和处理流程的真空处理装置的设计、编制和分析,
4216-科学服务以及研究服务，即有关等离子流程、半导体产品、用于等离子辅助生产和处理流程的真空处理装置的设计、编制和分析
4209-科学服务以及研究服务，即有关等离子流程、半导体产品、用于等离子辅助生产和处理流程的真空处理装置的设计、编制和分析;4216-科学服务以及研究服务，即有关等离子流程、半导体产品、用于等离子辅助生产和处理流程的真空处理装置的设计、编制和分析 - 2021-03-25-2031-03-25
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2011-09-07 商标注册申请 | 国际更正中
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