【ROADLAND 路兰得】商标详情
- ROADLAND 路兰得
- 82417268
- 已注册
- 普通商标
- 2024-12-07
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0102-丙二醇,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0102-醋酸酯,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅,
0115-工业用胶
0101-半导体用硅;0101-硅;0102-丙二醇;0102-碳化硅（原材料）;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0102-醋酸酯;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅;0115-工业用胶 - 1929
- 2025-03-27
- 1941
- 2025-06-28
- 2025-06-28-2035-06-27
- 上海路兰得新材料有限公司
- 上海市上海市************
- 郑州凯派尔知识产权代理有限公司
2025-09-08 商标注册申请 | 注册证发文
2024-12-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-12-07 商标注册申请 | 申请收文
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- 82417268
- 已注册
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- 2024-12-07
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0102-丙二醇,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0102-醋酸酯,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅,
0115-工业用胶
0101-半导体用硅;0101-硅;0102-丙二醇;0102-碳化硅（原材料）;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0102-醋酸酯;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅;0115-工业用胶 - 1929
- 2025-03-27
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- 2025-06-28
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2025-09-08 商标注册申请 | 注册证发文
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