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【FABTEX】商标详情

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FABTEX
  • FABTEX
  • G1860866
  • 待审中
  • 普通商标
  • 第09类
  • 2025-06-26
  • 0901

  • -用于半导体制造建模的已录制的计算机模拟软件,

    -用于半导体装置设计的三维模型虚拟样机用已录制计算机软件,

    -用于设计和制造半导体和微机电系统（MEMS）的已录制计算机软件,

    0901-用于半导体制造建模的已录制的计算机模拟软件,

    0901-用于半导体装置设计的三维模型虚拟样机用已录制计算机软件,

    0901-用于设计和制造半导体和微机电系统（MEMS）的已录制计算机软件

    -用于半导体制造建模的已录制的计算机模拟软件;-用于半导体装置设计的三维模型虚拟样机用已录制计算机软件;-用于设计和制造半导体和微机电系统（MEMS）的已录制计算机软件;0901-用于半导体制造建模的已录制的计算机模拟软件;0901-用于半导体装置设计的三维模型虚拟样机用已录制计算机软件;0901-用于设计和制造半导体和微机电系统（MEMS）的已录制计算机软件
  • LAM RESEARCH CORPORATION
  • 加利福尼亚弗里蒙特************
  • 国际局

  • 2025-12-08 驳回复审 | 申请收文

    2025-06-26 领土延伸 | 申请收文

  • FABTEX
  • G1860866
  • 待审中
  • 普通商标
  • 第09类
  • 2025-06-26
  • 0901

  • -用于半导体制造建模的已录制的计算机模拟软件,

    -用于半导体装置设计的三维模型虚拟样机用已录制计算机软件,

    -用于设计和制造半导体和微机电系统（MEMS）的已录制计算机软件,

    0901-用于半导体制造建模的已录制的计算机模拟软件,

    0901-用于半导体装置设计的三维模型虚拟样机用已录制计算机软件,

    0901-用于设计和制造半导体和微机电系统（MEMS）的已录制计算机软件

    -用于半导体制造建模的已录制的计算机模拟软件;-用于半导体装置设计的三维模型虚拟样机用已录制计算机软件;-用于设计和制造半导体和微机电系统（MEMS）的已录制计算机软件;0901-用于半导体制造建模的已录制的计算机模拟软件;0901-用于半导体装置设计的三维模型虚拟样机用已录制计算机软件;0901-用于设计和制造半导体和微机电系统（MEMS）的已录制计算机软件
  • LAM RESEARCH CORPORATION
  • 加利福尼亚弗里蒙特************
  • 国际局

  • 2025-12-08 驳回复审 | 申请收文

    2025-06-26 领土延伸 | 申请收文

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