【WINSE】商标详情
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- 93717818
- 待审中
- 普通商标
- 2026-08-27
0104 , 0106 , 0108 0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原 料,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-平版印刷用化学品,
0104-生产加工用脱脂溶剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0108-有机硅氧烷,
0108-未加工环氧树脂
0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用抗静电制剂;0104-平版印刷用化学品;0104-生产加工用脱脂溶剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0108-有机硅氧烷;0108-未加工环氧树脂 - 上海玟昕科技有限公司
- 上海市上海市************
- 北京高沃国际知识产权代理有限公司
2026-09-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-08-27 商标注册申请 | 申请收文
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0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
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