【GRISSOM】商标详情
- GRISSOM
- 72389823
- 已注册
- 普通商标
- 2023-06-21
0101 , 0102 , 0104 0101-氟,
0101-氯气,
0102-有机硅烷,
0102-聚硅氮烷,
0102-醚,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂
0101-氟;0101-氯气;0102-有机硅烷;0102-聚硅氮烷;0102-醚;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂 - 1854
- 2023-09-06
- 1866
- 2023-12-07
- 2023-12-07-2033-12-06
- 福建泓光半导体材料有限公司
- 福建省漳州市************
- 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司
2023-12-29 商标注册申请 | 注册证发文
2023-07-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-21 商标注册申请 | 申请收文
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- 72389823
- 已注册
- 普通商标
- 2023-06-21
0101 , 0102 , 0104 0101-氟,
0101-氯气,
0102-有机硅烷,
0102-聚硅氮烷,
0102-醚,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂
0101-氟;0101-氯气;0102-有机硅烷;0102-聚硅氮烷;0102-醚;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂 - 1854
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2023-12-29 商标注册申请 | 注册证发文
2023-07-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-21 商标注册申请 | 申请收文
