【XIPU MATERIAL】商标详情
- XIPU MATERIAL
- 73186568
- 已注册
- 普通商标
- 2023-07-31
0101 , 0102 , 0104 0101-工业用固态气体,
0102-氮化合物,
0102-氮氧化物,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产用抗氧化剂
0101-工业用固态气体;0102-氮化合物;0102-氮氧化物;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用抗静电制剂;0104-工业用清洁剂;0104-生产用抗氧化剂 - 1864
- 2023-11-20
- 1876
- 2024-02-21
- 2024-02-21-2034-02-20
- 漳州兮璞材料科技有限公司
- 福建省漳州市************
- 上海策朋知识产权代理有限公司
2024-03-14 商标注册申请 | 注册证发文
2023-08-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-07-31 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2023-07-31
0101 , 0102 , 0104 0101-工业用固态气体,
0102-氮化合物,
0102-氮氧化物,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产用抗氧化剂
0101-工业用固态气体;0102-氮化合物;0102-氮氧化物;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用抗静电制剂;0104-工业用清洁剂;0104-生产用抗氧化剂 - 1864
- 2023-11-20
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- 2024-02-21
- 2024-02-21-2034-02-20
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