【HTC】商标详情
- HTC
- 73250415
- 已注册
- 普通商标
- 2023-08-03
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0105 , 0106 , 0108 , 0115 0101-工业用氧,
0101-工业用石墨,
0101-氟,
0101-石墨烯,
0101-硅,
0101-碱金属,
0102-二氧化锰,
0102-工业用二氧化钛,
0102-工业用氧化钴,
0102-工业用苛性碱,
0102-氢氟酸,
0102-氧化铅,
0102-氧化锆,
0102-表面活性化学剂,
0103-科学用放射性元素,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-吸气剂(化学活性物质),
0104-吸附剂,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-工业用清洁剂,
0104-混凝土用凝结剂,
0104-防冻液,
0104-防垢用化学品,
0104-防水垢剂,
0104-防污剂,
0104-除油漆和油外的水泥防腐剂,
0104-除油漆外的水泥防水化学品,
0104-陶瓷釉,
0105-脱叶剂,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0108-工业用未加工塑料,
0108-有机硅树脂,
0108-未加工合成树脂,
0108-硅氧烷,
0115-固化剂,
0115-工业用胶,
0115-工业用黏合剂,
0115-补轮胎用合成物
0101-工业用氧;0101-工业用石墨;0101-氟;0101-石墨烯;0101-硅;0101-碱金属;0102-二氧化锰;0102-工业用二氧化钛;0102-工业用氧化钴;0102-工业用苛性碱;0102-氢氟酸;0102-氧化铅;0102-氧化锆;0102-表面活性化学剂;0103-科学用放射性元素;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-吸气剂(化学活性物质);0104-吸附剂;0104-工业用废水处理化学品;0104-工业用清洁剂;0104-混凝土用凝结剂;0104-防冻液;0104-防垢用化学品;0104-防水垢剂;0104-防污剂;0104-除油漆和油外的水泥防腐剂;0104-除油漆外的水泥防水化学品;0104-陶瓷釉;0105-脱叶剂;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0108-工业用未加工塑料;0108-有机硅树脂;0108-未加工合成树脂;0108-硅氧烷;0115-固化剂;0115-工业用胶;0115-工业用黏合剂;0115-补轮胎用合成物 - 1891
- 2024-06-13
- 1903
- 2024-09-14
- 2024-09-14-2034-09-13
- 日扬科技股份有限公司
- 台湾省台南市************
- 杭州企势科技有限公司
2024-05-30 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-04-04 商标注册 申请 | 驳回通知发文
2023-08-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-08-03 商标注册申请 | 申请收文
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0101-工业用石墨,
0101-氟,
0101-石墨烯,
0101-硅,
0101-碱金属,
0102-二氧化锰,
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0104-吸气剂(化学活性物质),
0104-吸附剂,
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0104-防污剂,
0104-除油漆和油外的水泥防腐剂,
0104-除油漆外的水泥防水化学品,
0104-陶 瓷釉,
0105-脱叶剂,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
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0108-未加工合成树脂,
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0115-固化剂,
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0115-补轮胎用合成物
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