【HIMAL】商标详情
- HIMAL
- 78947318
- 已注册
- 普通商标
- 2024-05-30
0104 , 0108 -生产半导体零部件用化学涂层,
-生产电子零件用化学涂层,
-聚酰胺酰亚胺,
-芳香族聚酰胺酰亚胺树脂溶液,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工聚合树脂,
0108-聚酰亚胺,
0108-聚酰胺
-生产半导体零部件用化学涂层;-生产电子零件用化学涂层;-聚酰胺酰亚胺;-芳香族聚酰胺酰亚胺树脂溶液;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工 原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0108-未加工合成树脂;0108-未加工聚合树脂;0108-聚酰亚胺;0108-聚酰胺 - 1900
- 2024-08-20
- 1912
- 2024-11-21
- 2024-11-21-2034-11-20
- 株式会社力森诺科
- 东京都东京************
- 北京市集佳律师事务所
2024-07-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-06-28 商 标注册申请 | 补正通知发文
2024-05-30 商标注册申请 | 申请收文
- HIMAL
- 78947318
- 已注册
- 普通商标
- 2024-05-30
0104 , 0108 -生产半导体零部件用化学涂层,
-生产电子零件用化学涂层,
-聚酰胺酰亚胺,
-芳香族聚酰胺酰亚胺树脂溶液,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工聚合树脂,
0108-聚酰亚胺,
0108-聚酰胺
-生产半导体零部件用化学涂层;-生产电子零件用化学涂层;-聚酰胺酰亚胺;-芳香族聚酰胺酰亚胺树脂溶液;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0108-未加工合成树脂;0108-未加工聚合树脂;0108-聚酰亚胺;0108-聚酰胺 - 1900
- 2024-08-20
- 1912
- 2024-11-21
- 2024-11-21-2034-11-20
- 株式会社力森诺科
- 东京都东京************
- 北京市集佳律师事务所
2024-07-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-06-28 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-05-30 商标注册申请 | 申请收文
