【ESAMBER】商标详情
- ESAMBER
- 83130454
- 已注册
- 普通商标
- 2025-01-15
0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-压缩氮气,
0101-氩,
0102-丙烯酸单体,
0102-二硫化碳,
0102-硅烷,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻 剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）
0101-压缩氮气;0101-氩;0102-丙烯酸单体;0102-二硫化碳;0102-硅烷;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用） - 1933
- 2025-04-27
- 1945
- 2025-07-28
- 2025-07-28-2035-07-27
- 佛山市屹博电子科技有限公司
- 广东省佛山市************
- 广州华傲知识产权服务有限公司
2025-02-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-01-15 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-压缩氮气,
0101-氩,
0102-丙烯酸单体,
0102-二硫化碳,
0102-硅烷,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）
0101- 压缩氮气;0101-氩;0102-丙烯酸单体;0102-二硫化碳;0102-硅烷;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用） - 1933
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