【图形】商标详情
- 图形
- 76222767
- 已注册
- 普通商标
- 2024-01-05
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0108 0101-工业用二氧化碳,
0102-化学用次硝酸铋,
0103-核能用可裂变物质,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-植物质过滤材料,
0104-生产加工用去污剂,
0104-纺织品上光化学品,
0106-生物化学催化剂,
0108-未加工模塑料
0101-工业用二氧化碳;0102-化学用次硝酸铋;0103-核能用可裂变物质;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-植物质过滤材料;0104-生产加工用去污剂;0104-纺织品上光化学品;0106-生物化学催化剂;0108-未加工模塑料 - 1892
- 2024-06-20
- 1904
- 2024-09-21
- 2024-09-21-2034-09-20
- 北京致睿生物医药科技有限公司
- 北京市北京市************
- 苏州火龙知识产权代理有限公司
2024-10-15 商标注册申请 | 注册证发文
2024-06-12 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-04-18 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-02-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-01-05 商标注册申请 | 申请收文
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- 2024-01-05
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0108 0101-工业用二氧化碳,
0102-化学用次硝酸铋,
0103-核能用可裂变物质,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-植物质过滤材料,
0104-生产加工用去污剂,
0104-纺织品上光化学品,
0106-生物化学催化剂,
0108-未加工模塑料
0101-工业用二氧化碳;0102-化学用次硝酸铋;0103-核能用可裂变物质;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-植物质过滤材料;0104-生产加工用去污剂;0104-纺织品上光化学品;0106-生物化学催化剂;0108-未加工模塑料 - 1892
- 2024-06-20
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2024-02-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-01-05 商标注册申请 | 申请收文
