【威迈芯】商标详情
- 威迈芯
- 60309710
- 已注册
- 普通商标
- 2021-11-03
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0107 , 0115 0101-工业硅,
0102-酸,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用洗净剂,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0107-摄影用显影剂,
0115-工业用胶
0101-工业硅;0102-酸;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-工业用洗净剂;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0107-摄影用显影剂;0115-工业用胶 - 1777
- 2022-01-27
- 1789
- 2022-04-28
- 2022-04-28-2032-04-27
- 苏州威迈芯材半导体有限公司
- 江苏省苏州市************
- 北京予仁知识产权代理有限公司
2022-05-20 商标注册申请 | 注册证发文
2021-11-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-11-03 商标注册申请 | 申请收文
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- 60309710
- 已注册
- 普通商标
- 2021-11-03
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0107 , 0115 0101-工业硅,
0102-酸,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用洗净剂,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0107-摄影用显影剂,
0115-工业用胶
0101-工业硅;0102-酸;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-工业用洗净剂;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0107-摄影用显影剂;0115-工业用胶 - 1777
- 2022-01-27
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- 2022-04-28
- 2022-04-28-2032-04-27
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- 江苏省苏州市************
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2022-05-20 商标注册申请 | 注册证发文
2021-11-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-11-03 商标注册申请 | 申请收文
