【SCIA SYSTEMS】商标详情
- SCIA SYSTEMS
- G1371501
- 已注册
- 普通商标
- 2017-10-26
4001 , 4002 , 4006 , 4015 4001-利用离子束进行材料处理,
4001-处理和加工光学器件,
4001-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）,
4001-处理和加工电子器件,
4002-利用真空沉积技术涂覆涂料,
4002-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）,
4006-利用真空沉积技术涂覆涂料,
4006-处理和加工光学器件,
4006-处理和加工基体（尤 指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）,
4015-刻蚀，尤指用离子束进行刻蚀
4001-利用离子束进行材料处理;4001-处理和加工光学器件;4001-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）;4001-处理和加工电子器件;4002-利用真空沉积技术涂覆涂料;4002-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）;4006-利用真空沉积技术涂覆涂料;4006-处理和加工光学器件;4006-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）;4015-刻蚀，尤指用离子束进行刻蚀 - 2017-04-26-2027-04-26
- scia Systems GmbH
- 萨克森开姆尼茨************
- 国际局
2018-05-18 领土延伸 | 审查
2017-10-26 领土延伸 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2017-10-26
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4001-处理和加工光学器件,
4001-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）,
4001-处理和加工电子器件,
4002-利用真空沉积技术涂覆涂料,
4002-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）,
4006-利用真空沉积技术涂覆涂料,
4006-处理和加工光学器件,
4006-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）,
4015-刻蚀，尤指用离子束进行刻蚀
4001-利用离子束进行材料处理;4001-处理和加工光学器件;4001-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）;4001-处理和加工电子器件;4002-利用真空沉积技术涂覆涂料;4002-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）;4006-利用真空沉积技术涂覆涂料;4006-处理和加工光学器件;4006-处理和加工基体（尤指半导体材料、硅、玻璃、金属、塑料或聚合材料基体）;4015-刻蚀，尤指用离子束进行刻蚀 - 2017-04-26-2027-04-26
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