【合祝】商标详情
- 合祝
- 48642062
- 已注册
- 普通商标
- 2020-08-04
0104 , 0107 , 0115 0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0107-定影溶液（摄影用）,
0107-摄影用显影剂,
0115-工业用粘合剂和胶水
0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用化学品;0104-工业用清洁剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0107-定影溶液（摄影用）;0107-摄影用显影剂;0115-工业用粘合剂和胶水 - 1723
- 2020-12-13
- 1735
- 2021-03-14
- 2021-03-14-2031-03-13
- 上海合祝科贸有限公司
- 上海市上海市************
- 慈溪市杰成知识产权事务所
2021-04-26 商标注册申请 | 注册证发文
2020-09-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-08-04 商标注册申请 | 申请收文
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- 48642062
- 已注册
- 普通商标
- 2020-08-04
0104 , 0107 , 0115 0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0107-定影溶液（摄影用）,
0107-摄影用显影剂,
0115-工业用粘合剂和胶水
0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用化学品;0104-工业用清洁剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0107-定影溶液（摄影用）;0107-摄影用显影剂;0115-工业用粘合剂和胶水 - 1723
- 2020-12-13
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- 2021-03-14
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2020-08-04 商标注册申请 | 申请收文
