【RETICLEAN】商标详情
- RETICLEAN
- G1343026
- 已注册
- 普通商标
- 2017-05-04
0742 , 0744 0742-用于加工和生产半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片的设备和机器，即表面清洁用机器以及用于半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片抛光的抛光机器,
0744-用于加工和生产半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片的设备和机器，即表面清洁用机器以及用于半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片抛光的抛光机器
0742-用于加工和生产半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片的设备和机器，即表面清洁用机器以及用于半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片抛光的抛光机器;0744-用于加工和生产半导 体基板、薄膜、硅磁盘和晶片的设备和机器，即表面清洁用机器以及用于半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片抛光的抛光机器 - 2016-09-20-2026-09-20
- APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2018-09-25 领土延伸 | 审查
2017-05-04 领土延伸 | 申请收文
- RETICLEAN
- G1343026
- 已注册
- 普通商标
- 2017-05-04
0742 , 0744 0742-用于加工和生产半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片的设备和机器，即表面清洁用机器以及用于半导体基板、薄膜、硅磁 盘和晶片抛光的抛光机器,
0744-用于加工和生产半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片的设备和机器，即表面清洁用机器以及用于半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片抛光的抛光机器
0742-用于加工和生产半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片的设备和机器，即表面清洁用机器以及用于半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片抛光的抛光机器;0744-用于加工和生产半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片的设备和机器，即表面清洁用机器以及用于半导体基板、薄膜、硅磁盘和晶片抛光的抛光机器 - 2016-09-20-2026-09-20
- APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
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