【TSK】商标详情
- TSK
- 55218351
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-14
0102 , 0104 , 0107 , 0108 , 0115 0102-硅胶,
0102-表面活性剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-闪光灯用制剂,
0107-摄影用化学制剂,
0108-有机硅树脂,
0108-未加工环氧树脂,
0108-聚氯乙烯树脂,
0115-工业用粘合剂和胶水
0102-硅胶;0102-表面活性剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-闪光灯用制剂;0107-摄影用化学制剂;0108-有机硅树脂;0108-未加工环氧树脂;0108-聚氯乙烯树脂;0115-工业用粘合剂和胶水 - 1774
- 2022-01-06
- 1786
- 2022-04-07
- 2022-04-07-2032-04-06
- 深圳市筑波化成材料有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳市上羽知识产权代理有限公司
2022-04-30 商标注册申请 | 注册证发文
2021-12-19 商标注册申请 | 等待驳回复审
2021-10-23 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-05-01 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-04-14 商标注册申请 | 申请收文
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- 55218351
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-14
0102 , 0104 , 0107 , 0108 , 0115 0102-硅胶,
0102-表面活性剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-闪光灯用制剂,
0107-摄影用化学制剂,
0108-有机硅树脂,
0108-未加工环氧树脂,
0108-聚氯乙烯树脂,
0115-工业用粘合剂和胶水
0102-硅胶;0102-表面活性剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-闪光灯用制剂;0107-摄影用化学制剂;0108-有机硅树脂;0108-未加工环氧树脂;0108-聚氯乙烯树脂;0115-工业用粘合剂和胶水 - 1774
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- 深圳市筑波化成材料有限公司
- 广东省深圳市************
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2021-12-19 商标注册申请 | 等待驳回复审
2021-10-23 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-05-01 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-04-14 商标注册申请 | 申请收文
