【ENDURA CIRRUS】商标详情
- ENDURA CIRRUS
- G1702396
- 待审中
- 普通商标
- 2022-12-22
0744 0744-晶片加工设备，即金属物理气相沉积（PVD）工艺系统
0744-晶片加工设备，即金属物理气相沉积（PVD）工艺系统 - 2022-11-02-2032-11-02
- APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2023-07-11 领土延伸 | 审查
2022-12-22 商标注册申请 | 申请收文
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- ENDURA CIRRUS
- G1702396
- 待审中
- 普通商标
- 2022-12-22
0744 0744-晶片加工设备，即金属物理气相沉积（PVD）工艺系统
0744-晶片加工设备，即金属物理气相沉积（PVD）工艺系统 - 2022-11-02-2032-11-02
- APPLIED MATERIALS， INC.
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