【C.NITE】商标详情
- C.NITE
- G1082806
- 已销亡
- 普通商标
- 2011-07-23
0729 , 0734 , 0744 , 0746 0729-用于化学汽相沉积的设备和反应堆（化学汽相沉积反应堆）（包括在本类）,
0734-用于半导体、基片、晶片以及太阳能电池的机械加工和运输的机械设备、仪器、机械以及由上述构成的设施,
0744-用于加固和/或生产半导体、硅、基片、锭料、太阳能电池、硅切片、晶片、复合半导体、半导体装置、功率半导体、发光二极管（发光二极管）、纳米电子机械产品（纳米电 子机械）、薄膜工艺产品、传感器技术产品、碳纳米管（碳纳米管）以及热激活流程产品的机械设备、仪器、机械以及由上述（包括在本类）构成的设施,
0744-用于半导体、基片、晶片以及太阳能电池的机械加工和运输的机械设备、仪器、机械以及由上述构成的设施,
0744-真空等离子涂层设备,
0746-用于化学汽相沉积的设备和反应堆（化学汽相沉积反应堆）（包括在本类）
0729-用于化学汽相沉积的设备和反应堆（化学汽相沉积反应堆）（包括在本类）;0734-用于半导体、基片、晶片以及太阳能电池的机械加工和运输的机械设备、仪器、机械以及由上述构成的设施;0744-用于加固和/或生产半导体、硅、基片、锭料、太阳能电池、硅切片、晶片、复合半导体、半导体装置、功率半导体、发光二极管（发光二极管）、纳米电子机械产品（纳米电子机械）、薄膜工艺产品、传感器技术产品、碳纳米管（碳纳米管）以及热激活流程产品的机械设备、仪器、机械以及由上述（包括在本类）构成的设施;0744-用于半导体、基片、晶片以及太阳能电池的机械加工和运输的机械设备、仪器、机械以及由上述构成的设施;0744-真空等离子涂层设备;0746-用于化学汽相沉积的设备和反应堆（化学汽相沉积反应堆）（包括在本类） - 2011-03-02-2021-03-02
- centrotherm international AG
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
- 国际局
2021-11-07 国际注销 | 申请收文
2016-02-26 国际部分注销 | 申请收文
2014-03-24 商标注册申请 | 驳回复审完成
2013-09-22 商标注册申请 | 驳回复审完成
2012-06-01 驳回复审 | 打印受理通知
2012-05-16 商标注册申请 | 国际部分注销中
2012-04-01 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2012-04-01 商标注册申请 | 驳回复审中
2012-04-01 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2012-02-27 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2011-07-23 领土延伸 | 申请收文
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0729 , 0734 , 0744 , 0746 0729-用于化学汽相沉积的设备和反应堆（化学汽相沉积反应堆）（包括在本类）,
0734-用于半导体、基片、晶片以及太阳能电池的机械加工和运输的机械设备、仪器、机械以及由上述构成的设施,
0744-用于加固和/或生产半导体、硅、基片、锭料、太阳能电池、硅切片、晶片、复合半导体、半导体装置、功率半导体、发光二极管（发光二极管）、纳米电子机械产品（纳米电子机械）、薄膜工艺产品、传感器技术产品、碳纳米管（碳纳米管）以及热激活流程产品的机械设备、仪器、机械以及由上述（包括在本类）构成的设施,
0744-用于半导体、基片、晶片以及太阳能电池的机械加工和运输的机械设备、仪器、机械以及由上述构成的设施,
0744-真空等离子涂层设备,
0746-用于化学汽相沉积的设备和反应堆（化学汽相沉积反应堆）（包括在本类）
0729-用于化学汽相沉积的设备和反应堆（化学汽相沉积反应堆）（包括在本类）;0734-用于半导体、基片、晶片以及太阳能电池的机械加工和运输的机械设备、仪器、机械以及由上述构成的设施;0744-用于加固和/或生产半导体、硅、基片、锭料、太阳能电池、硅切片、晶片、复合半导体、半导体装置、功率半导体、发光二极管（发光二极管）、纳米电子机械产品（纳米电子机械）、 薄膜工艺产品、传感器技术产品、碳纳米管（碳纳米管）以及热激活流程产品的机械设备、仪器、机械以及由上述（包括在本类）构成的设施;0744-用于半导体、基片、晶片以及太阳能电池的机械加工和运输的机械设备、仪器、机械以及由上述构成的设施;0744-真空等离子涂层设备;0746-用于化学汽相沉积的设备和反应堆（化学汽相沉积反应堆）（包括在本类） - 2011-03-02-2021-03-02
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