【中环】商标详情
- 中环
- 63993381
- 已注册
- 普通商标
- 2022-04-15
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业硅,
0101-硅,
0101-结晶硅,
0102-有机砷化合物,
0102-氮化合物,
0102-硅油,
0102-硅酸盐,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业硅;0101-硅;0101-结晶硅;0102-有机砷化合物;0102-氮化合物;0102-硅油;0102-硅酸盐;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1809
- 2022-09-27
- 1821
- 2022-12-28
- 2022-12-28-2032-12-27
- TCL科技集团（天津）有限公司
- 天津市天津市************
- 深圳紫藤知识产权代理有限公司
2023-01-21 商标注册申请 | 注册证发文
2023-01-21 商标注册申请 | 等待注册证发文
2022-09-13 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-07-19 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2022-07-19 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-05-09 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-05-09 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-04-15 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业 硅,
0101-硅,
0101-结晶硅,
0102-有机砷化合物,
0102-氮化合物,
0102-硅油,
0102-硅酸盐,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业硅;0101-硅;0101-结晶硅;0102-有机砷化合物;0102-氮化合物;0102-硅油;0102-硅酸盐;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1809
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