
【SHINE】商标详情

- SHINE
- 74901598
- 已销亡
- 普通商标
- 2023-10-31
0102 , 0104 , 0115 0102-硅胶,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-脱胶制剂(分离),
0115-工业用合成树脂制黏合剂,
0115-工业用树胶(黏合剂),
0115-工业用橡胶胶黏剂,
0115-工业用黏合剂,
0115-工业用黏合物质,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0102-硅胶;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-脱胶制剂(分离);0115-工业用合成树脂制黏合剂;0115-工业用树胶(黏合剂);0115-工业用橡胶胶黏剂;0115-工业用黏合剂;0115-工业用黏合物质;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 苏州世华新材料科技股份有限公司
- 江苏省苏州市************
- 北京品源知识产权代理有限公司
2024-03-25 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-01-30 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-11-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-10-31 商标注册申请 | 申请收文
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- 74901598
- 已销亡
- 普通商标
- 2023-10-31
0102 , 0104 , 0115 0102-硅胶,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-脱胶制剂(分离),
0115-工业用合成树脂制黏合剂,
0115-工业用树胶(黏合剂),
0115-工业用橡胶胶黏剂,
0115-工业用黏合剂,
0115-工业用黏合物质,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0102-硅胶;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-脱胶制剂(分离);0115-工业用合成树脂制黏合剂;0115-工业用树胶(黏合剂);0115-工业用橡胶胶黏剂;0115-工业用黏合剂;0115-工业用黏合物质;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 苏州世华新材料科技股份有限公司
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2024-01-30 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-11-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-10-31 商标注册申请 | 申请收文
