【SPIRE】商标详情
- SPIRE
- 350818
- 已销亡
- 普通商标
- 1988-09-28
0101 , 0104 -产品和器械用的属于第26类的化学制品和化学混合物,
-即半导体,
-即硅,
-多晶硅薄膜,
-生产以及用于光电,
-用于研究,
-电子和薄膜的混合物,
-立方晶格氮化硼,
-钛,
-铝,
0101-氮,
0101-钇,
0104-再结晶薄膜硅,
0104-刻蚀混合物和静电混合物,
0104-外延硅薄膜,
0104-溅射混合物,
0104-烧结晶混合物,
0104-生产和加工材料,
0104-电子和金属表面改性工业中研究,
0104-真空汽化炭,
0104-石墨外延,
0104-砷化镓,
0104-硅异质结构,
0104-离子束淀积混合物及涂层,
0104-经光刻处理的混合物,
0104-经加工处理的非晶硅,
0104-经退火的混合物,
0104-铸硅衬底,
0104-锗等离子淀积薄膜
-产品和器械用的属于第26类的化学制品和化学混合物;-即半导体;-即硅;-多晶硅薄膜;-生产以及用于光电;-用于研究;-电子和薄膜的混合物;-立方晶格氮化硼;-钛;-铝;0101-氮;0101-钇;0104-再结晶薄膜硅;0104-刻蚀混合物和静电混合物;0104-外延硅薄膜;0104-溅射混合物;0104-烧结晶混合物;0104-生产和加工材料;0104-电子和金属表面改性工业中研究;0104-真空汽化炭;0104-石墨外延;0104-砷化镓;0104-硅异质结构;0104-离子束淀积混合物及涂层;0104-经光刻处理的混合物;0104-经加工处理的非晶硅;0104-经退火的混合物;0104-铸硅衬底;0104-锗等离子淀积薄膜 - 244
- 1989-03-10
- 253
- 1989-06-09
- 2009-06-10-2019-06-09
- 斯拜尔公司
- 美国
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2024-01-29 期满未续展注销商标 | 排版未续展注销公告
2024-01-29 期满未续展注销商标 | 申请收文
2024-01-23 期满未续展注销商标 | 申请收文
2009-10-12 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2009-05-18 商标续展 | 申请收文
1988-09-28 商标注册申请 | 申请收文
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- 1988-09-28
0101 , 0104 -产品和器械用的属于第26类的化学制品和化学混合物,
-即半导体,
-即硅,
-多晶硅薄膜,
-生产以及用于光电,
-用于研究,
-电子和薄膜的混合物,
-立方晶格氮化硼,
-钛,
-铝,
0101-氮,
0101-钇,
0104-再结晶薄膜硅,
0104-刻蚀混合物和静电混合物,
0104-外延硅薄膜,
0104-溅射混合物,
0104-烧结晶混合物,
0104-生产和加工材料,
0104-电子和金属表面改性工业中研究,
0104-真空汽化炭,
0104-石墨外延,
0104-砷化镓,
0104-硅异质结构,
0104-离子束淀积混合物及涂层,
0104-经光刻处理的混合物,
0104-经加工处理的非晶硅,
0104-经退火的混合物,
0104-铸硅衬底,
0104-锗等离子淀积薄膜
-产品和器械用的属于第26类的化学制品和化学混合物;-即半导体;-即硅;-多晶硅薄膜;-生产以及用于光电;-用于研究;-电子和薄膜的混合物;-立方晶格氮化硼;-钛;-铝;0101-氮;0101-钇;0104-再结晶薄膜硅;0104-刻蚀混合物和静电混合物;0104-外延硅薄膜;0104-溅射混合物;0104-烧结晶混合物;0104-生产和加工材料;0104-电子和金属表面改性工业中研究;0104-真空汽化炭;0104-石墨外延;0104-砷化镓;0104-硅异质结构;0104-离子束淀积混合物及涂层;0104-经光刻处理的混合物;0104-经加工处理的非晶硅;0104-经退火的混合物;0104-铸硅衬底;0104-锗等离子淀积薄膜 - 244
- 1989-03-10
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