【芯胜世界】商标详情
- 芯胜世界
- 68241940
- 已注册
- 普通商标
- 2022-11-09
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0105 , 0106 , 0108 0101-半导体用硅,
0102-硅胶,
0103-工业用同位素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0105-增润剂,
0106-分析化学用缓冲溶液,
0108-硅氧烷
0101-半导体用硅;0102-硅胶;0103-工业用同位素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0105-增润剂;0106-分析化学用缓冲溶液;0108-硅氧烷 - 1836
- 2023-04-20
- 1848
- 2023-07-21
- 2023-07-21-2033-07-20
- 浙江芯胜半导体有限公司
- 浙江省金华市************
- 北京冠和权知识产权代理有限公司
2023-08-17 商标注册申请 | 注册证发文
2023-04-11 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-02-14 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-11-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-11-09 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0105 , 0106 , 0108 0101-半导体用硅,
0102-硅胶,
0103-工业用同位素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0105-增润剂,
0106-分析化学用缓冲溶液,
0108-硅氧烷
0101-半导体用硅;0102-硅胶;0103-工业用同位素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0105-增润剂;0106-分析化学用缓冲溶液;0108-硅氧烷 - 1836
- 2023-04-20
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2022-11-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-11-09 商标注册申请 | 申请收文
