【SYSMEX】商标详情
- SYSMEX
- 566023
- 已注册
- 普通商标
- 1990-10-05
-分析用化学试剂和制剂,
-即:标准溶液,
-即:稀释剂,
-去垢剂(生产加工用),
-或控制粒子,
-标准材料或控制材料,
-标准粒子,
-溶解液或溶解试剂
-分析用化学试剂和制剂;-即:标准溶液;-即:稀释剂;-去垢剂(生产加工用);-或控制粒子;-标准材料或控制材料;-标准粒子;-溶解液或溶解试剂 - 327
- 1991-06-29
- 336
- 1991-09-30
- 2021-09-30-2031-09-29
- 希森美康株式会社
- 兵库神户************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2021-07-27 商标续展 | 核准通知打印发送
2021-07-09 商标续展 | 申请收文
2021-07-07 商标续展 | 申请收文
2012-12-03 商标使用许可备案 | 打印备案通知
2012-05-17 商标使用许可备案 | 申请收文
2011-10-17 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2011-08-01 商标续展 | 申请收文
2010-10-25 商标使用许可备案 | 打印备案通知
2010-07-21 商标使用许可备案 | 申请收文
2007-11-22 商标使用许可备案 | 打印不受理通知
2007-10-31 商标使用许可备案 | 申请收文
1990-10-05 商标注册申请 | 申请收文
- SYSMEX
- 566023
- 已注册
- 普通商标
- 1990-10-05
-分析用化学试剂和制剂,
-即:标准溶液,
-即:稀释剂,
-去垢剂(生产加工用),
-或控制粒子,
-标准材料或控制材料,
-标准粒子,
-溶解液或溶解试剂
-分析用化学试剂和制剂;-即:标准溶液;-即:稀释剂;-去垢剂(生产加工用);-或控制粒子;-标准材料或控制材料;-标准粒子;-溶解液或溶解试剂 - 327
- 1991-06-29
- 336
- 1991-09-30
- 2021-09-30-2031-09-29
- 希森美康株式会社
- 兵库神户************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
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2012-12-03 商标使用许可备案 | 打印备案通知
2012-05-17 商标使用许可备案 | 申请收文
2011-10-17 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2011-08-01 商标续展 | 申请收文
2010-10-25 商标使用许可备案 | 打印备案通知
2010-07-21 商标使用许可备案 | 申请收文
2007-11-22 商标使用许可备案 | 打印不受理通知
2007-10-31 商标使用许可备案 | 申请收文
1990-10-05 商标注册申请 | 申请收文
