
【SHINLANS】商标详情

- SHINLANS
- 78722160
- 已注册
- 普通商标
- 2024-05-21
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0105 , 0107 , 0108 , 0110 , 0112 , 0115 0101-氮,
0102-丙酮,
0103-科学用放射性元素,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0105-树木嫁接用蜡,
0107-感光板,
0108-未加工硅塑料,
0110-灭火合成物,
0112-焊接用化学品,
0115-工业用黏合剂
0101-氮;0102-丙酮;0103-科学用放射性元素;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0105-树木嫁接用蜡;0107-感光板;0108-未加工硅塑料;0110-灭火合成物;0112-焊接用化学品;0115-工业用黏合剂 - 1912
- 2024-11-20
- 1924
- 2025-02-21
- 2025-02-21-2035-02-20
- 绍兴芯链半导体科技有限公司
- 浙江省绍兴市************
- 邮寄办理
2024-11-07 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-09-12 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-06-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-21 商标注册申请 | 申请收文
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- 78722160
- 已注册
- 普通商标
- 2024-05-21
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0105 , 0107 , 0108 , 0110 , 0112 , 0115 0101-氮,
0102-丙酮,
0103-科学用放射性元素,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0105-树木嫁接用蜡,
0107-感光板,
0108-未加工硅塑料,
0110-灭火合成物,
0112-焊接用化学品,
0115-工业用黏合剂
0101-氮;0102-丙酮;0103-科学用放射性元素;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0105-树木嫁接用蜡;0107-感光板;0108-未加工硅塑料;0110-灭火合成物;0112-焊接用化学品;0115-工业用黏合剂 - 1912
- 2024-11-20
- 1924
- 2025-02-21
- 2025-02-21-2035-02-20
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2024-11-07 商标注册申请 | 等待驳回复审
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2024-06-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-21 商标注册申请 | 申请收文
