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【JXT】商标详情
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- JXT
- 81438528
- 已初审
- 普通商标
- 2024-10-17
0102 , 0104 , 0106 , 0107 0102-碱,
0102-酯,
0102-酸,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-清漆溶剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用显影剂
0102-碱;0102-酯;0102-酸;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-清漆溶剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用显影剂 - 1919
- 2025-01-13
- 上海炬芯科技有限公司
- 上海市上海市************
- 立信企业服务(河南)有限公司
2024-11-13 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-10-17 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-01-13 第1919期 查看公告
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- 2024-10-17
0102 , 0104 , 0106 , 0107 0102-碱,
0102-酯,
0102-酸,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-清漆溶剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用显影剂
0102-碱;0102-酯;0102-酸;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-清漆溶剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用显影剂 - 1919
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