【艾深斯科技 ASENS TECHNOLOGY】商标详情
- 艾深斯科技 ASENS TECHNOLOGY
- 43537830
- 已注册
- 普通商标
- 2020-01-03
0102 , 0104 , 0106 , 0108 0102-酯,
0104-光致抗蚀剂,
0104-光触媒,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学品,
0104-平板印刷用化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-药品制造用化学添加剂,
0104-蚀刻媒染剂（酸）,
0106-非兽医用化学试剂,
0108-硅酮
0102-酯;0104-光致抗蚀剂;0104-光触媒;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用化学品;0104-平板印刷用化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-药品制造用化学添加剂;0104-蚀刻媒染剂（酸）;0106-非兽医用化学试剂;0108-硅酮 - 1735
- 2021-03-13
- 1747
- 2021-06-14
- 2021-06-14-2031-06-13
- 上海艾深斯科技有限公司
- 上海市上海市************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2021-07-15 驳回复审 | 打印注册证
2021-07-15 驳回复审 | 等待打印注册证
2021-03-02 驳回复审 | 实审裁文发文
2020-11-30 驳回复审 | 评审分案
2020-08-27 驳回复审 | 申请收文
2020-08-26 驳回复审 | 申请收文
2020-08-12 商标注册申请 | 驳回通知发文
2020-06-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-05-09 商标注册申请 | 等待补正回文
2020-05-09 商标注册申请 | 补正回文
2020-04-28 商标注册申请 | 补正通知发文
2020-01-03 商标注册申请 | 申请收文
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0102 , 0104 , 0106 , 0108 0102-酯,
0104-光致抗蚀剂,
0104-光触媒,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学品,
0104-平板印刷用化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-药品制造用化学添加剂,
0104-蚀刻媒染剂（酸）,
0106-非兽医用化学试剂,
0108-硅酮
0102-酯;0104-光致抗蚀剂;0104-光触媒;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用化学品;0104-平板印刷用化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-药品制造用化学添加剂;0104-蚀刻媒染剂（酸）;0106-非兽医用化学试剂;0108-硅酮 - 1735
- 2021-03-13
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2020-11-30 驳回复审 | 评审分案
2020-08-27 驳回复审 | 申请收文
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