【FINESTIK】商标详情
- FINESTIK
- 44966475
- 已注册
- 普通商标
- 2020-03-27
0104 , 0108 , 0115 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0108-有机硅树脂,
0108-未加工丙烯酸树脂,
0108-未加工人造树脂,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工聚合树脂,
0115-工业用树胶（黏合剂）,
0115-工业用胶,
0115-工业用黏合剂
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0108-有机硅树脂;0108-未加工丙烯酸树脂;0108-未加工人造树脂;0108-未加工合成树脂;0108-未加工聚合树脂;0115-工业用树胶（黏合剂）;0115-工业用胶;0115-工业用黏合剂 - 1711
- 2020-09-13
- 1723
- 2020-12-14
- 2020-12-14-2030-12-13
- 苏州凡赛特材料科技有限公司
- 江苏省苏州市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2021-01-14 商标注册申请 | 注册证发文
2020-05-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-03-27 商标注册申请 | 申请收文
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- 2020-03-27
0104 , 0108 , 0115 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0108-有机硅树脂,
0108-未加工丙烯酸树脂,
0108-未加工人造树脂,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工聚合树脂,
0115-工业用树胶（黏合剂）,
0115-工业用胶,
0115-工业用黏合剂
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0108-有机硅树脂;0108-未加工丙烯酸树脂;0108-未加工人造树脂;0108-未加工合成树脂;0108-未加工聚合树脂;0115-工业用树胶（黏合剂）;0115-工业用胶;0115-工业用黏合剂 - 1711
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2020-05-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-03-27 商标注册申请 | 申请收文
