【SCIOS】商标详情
- SCIOS
- G1492382
- 待审中
- 普通商标
- 2019-10-17
0910 0910-使用场发射技术的科学和实验室用高亮度、亚微米离子束和电子束，即用于离子光刻、离子束研磨、二次离子质谱和掩模修复的聚焦离子束,
0910-科学和实验室用聚焦电子束，即用于电子束光刻、电子束显微镜和液态金属离子源的聚焦电子束
0910-使用场发射技术的科学和实验室用高亮度、亚微米离子束和电子束，即用于离子光刻、离子束研磨、二次离子质谱和掩模修复的聚焦离子束;0910-科学和实验室用聚焦电子束，即用于电子束光刻、电子束显微镜和液态金属离子源的聚焦电子束 - FEI COMPANY
- 俄勒冈希尔斯伯勒************
- 国际局
2023-12-25 驳回复审 | 实审裁文发文
2023-12-13 评审应诉 | 判决结果
2021-03-30 评审应诉 | 申请收文
2020-09-03 驳回复审 | 实审裁文发文
2020-02-07 驳回复审 | 申请 收文
2020-01-11 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-10-17 领土延伸 | 申请收文
- SCIOS
- G1492382
- 待审中
- 普通商标
- 2019-10-17
0910 0910-使用场发射技术的科学 和实验室用高亮度、亚微米离子束和电子束，即用于离子光刻、离子束研磨、二次离子质谱和掩模修复的聚焦离子束,
0910-科学和实验室用聚焦电子束，即用于电子束光刻、电子束显微镜和液态金属离子源的聚焦电子束
0910-使用场发射技术的科学和实验室用高亮度、亚微米离子束和电子束，即用于离子光刻、离子束研磨、二次离子质谱和掩模修复的聚焦离子束;0910-科学和实验室用聚焦电子束，即用于电子束光刻、电子束显微镜和液态金属离子源的聚焦电子束 - FEI COMPANY
- 俄勒冈希尔斯伯勒************
- 国际局
2023-12-25 驳回复审 | 实审裁文发文
2023-12-13 评审应诉 | 判决结果
2021-03-30 评审应诉 | 申请收文
2020-09-03 驳回复审 | 实审裁文发文
2020-02-07 驳回复审 | 申请收文
2020-01-11 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-10-17 领土延伸 | 申请收文
