【福豆芯源】商标详情
- 福豆芯源
- 56764397
- 已注册
- 普通商标
- 2021-06-08
0101 , 0102 , 0104 0101-氟,
0101-液体二氧化硫,
0102-乙炔,
0102-乙烯,
0102-有机卤化物,
0102-氯化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品
0101-氟;0101-液体二氧化硫;0102-乙炔;0102-乙烯;0102-有机卤化物;0102-氯化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品 - 1761
- 2021-09-27
- 1773
- 2021-12-28
- 2021-12-28-2031-12-27
- 福建福豆新材料有限公司
- 福建省南平市************
- 武汉大信智和知识产权服务有限公司
2022-01-22 商标注册申请 | 注册证发文
2021-07-07 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-06-08 商标注册申请 | 申请收文
- 福豆芯源
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- 已注册
- 普通商标
- 2021-06-08
0101 , 0102 , 0104 0101-氟,
0101-液体二氧化硫,
0102-乙炔,
0102-乙烯,
0102-有机卤化物,
0102-氯化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品
0101-氟;0101-液体二氧化硫;0102-乙炔;0102-乙烯;0102-有机卤化物;0102-氯化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品 - 1761
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2021-06-08 商标注册申请 | 申请收文
