【PPSEE】商标详情
- PPSEE
- 6598939
- 已销亡
- 普通商标
- 2008-03-17
4209 , 4210 , 4211 , 4213 , 4214 , 4216 , 4217 , 4218 , 4220 , 4227 4209-技术项目研究,
4210-测量,
4211-化学服务,
4213-气象信息,
4214-材料测试,
4216-工业品外观设计,
4217-建设项目的开发,
4218-服装设计,
4220-计算机软件设计,
4227-书画刻 印艺术设计
4209-技术项目研究;4210-测量;4211-化学服务;4213-气象信息;4214-材料测试;4216-工业品外观设计;4217-建设项目的开发;4218-服装设计;4220-计算机软件设计;4227-书画刻印艺术设计 - 1217
- 2010-05-27
- 1229
- 2010-08-28
- 2010-08-28-2020-08-27
- 广州鸿悦软件科技有限公司
- 广东省广州市************
- 广东鼎田知识产权代理有限公司
2024-01-08 期满未续展注销商标 | 排版未续展注销公告
2024-01-08 期满未续展注销商标 | 申请收文
2023-12-28 期满未续展注销商标 | 申请收文
2013-10-28 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印核准变更证明
2013-04-09 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知
2013-03-18 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2010-09-15 商标注册申请 | 打印注册证
2008-03-31 商标注册申请 | 打印受理通知
2008-03-17 商标注册申请 | 申请收文
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4210-测量,
4211-化学服务,
4213-气象信息,
4214-材料测试,
4216-工业品外观设计,
4217-建设项目的开发,
4218-服装设计,
4220-计算机软件设计,
4227-书画刻印艺术设计
4209-技术项目研究;4210-测量;4211-化学服务;4213-气象信息;4214-材料测试;4216-工业品外观设计;4217-建设项目的开发;4218-服装设计;4220-计算机软件设计;4227-书画刻印艺术设计 - 1217
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