【MIC-TECH】商标详情
- MIC-TECH
- 3234063
- 已注册
- 普通商标
- 2002-07-08
0729 , 0744 0729-化学供应系统,
0729-化学废液回收系统,
0729-化学清洗槽,
0729-化学研磨液供应系统,
0744-中央供酸系统（半导体制造行业用）,
0744-晶片清洗机械,
0744-有机金属气相沉积机械（半导体制造行业、光纤行业用）,
0744-气瓶柜（半导体制造行业、光纤行业用）
0729-化学供应系统;0729-化学废液回收系统;0729- 化学清洗槽;0729-化学研磨液供应系统;0744-中央供酸系统（半导体制造行业用）;0744-晶片清洗机械;0744-有机金属气相沉积机械（半导体制造行业、光纤行业用）;0744-气瓶柜（半导体制造行业、光纤行业用） - 907
- 2003-12-14
- 919
- 2004-03-14
- 2024-03-14-2034-03-13
- 帆宣系统科技股份有限公司
- 台湾省************
- 上海东方专利商标代理有限公司
2023-12-06 商标续展 | 核准通知打印发送
2023-11-24 变更商标代理人 | 核准通知打印发送
2023-11-10 变更商标代理人 | 申请收文
2023-11-10 商标续展 | 申请收文
2015-05-08 商标续展 | 核准通知打印发送
2015-04-20 商标续展 | 申请收文
2013-12-09 商标续展 | 申请收文
2013-06-26 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印核准变更证明
2013-05-14 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知
2013-04-10 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2004-04-08 商标注册申请 | 打印注册证
2002-11-25 商标注册申请 | 等待补正回文
2002-11-25 商标注册申请 | 补正回文
2002-11-25 商标注册申请 | 补正收文
2002-08-29 商标注册申请 | 打印受理通知
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2002-07-08 商标注册申请 | 申请收文
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0729-化学废液回收系统,
0729-化学清洗槽,
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0744-中央供酸系统（半导体制造行业用）,
0744-晶片清洗机械,
0744-有机金属气相沉积机械（半导体制造行业、光纤行业用）,
0744-气瓶柜（半导体制造行业、光纤行业用）
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