【EVOKAIR】商标详情
- EVOKAIR
- 76171683
- 待审中
- 普通商标
- 2024-01-03
0101 , 0102 , 0104 0101-一氧化二氮,
0101-六氟化硫,
0101-氨,
0102-氟化铵,
0102-氢氟酸,
0102-硅烷,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-气雾剂用气体推进剂
0101-一氧化二氮;0101-六氟化硫;0101-氨;0102-氟化铵;0102-氢氟酸;0102-硅烷;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-气雾剂用气体推进剂 - 浙江孚领新材料有限公司
- 浙江省衢州市************
- 邮寄办理
2024-11-06 驳回复审 | 实审裁文发文
2024-05-03 驳回复审 | 申请收文
2024-04-17 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-01-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-01-03 商标注册申请 | 申请收文
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0101-氨,
0102-氟化铵,
0102-氢氟酸,
0102-硅烷,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-气雾剂用气体推进剂
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