【图形】商标详情
- 图形
- 92606800
- 已初审
- 普通商标
- 2026-06-25
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业用石墨,
0101-蓄电池用人造石墨,
0102-工业用碳化硅,
0102-碳化硅,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用炭黑
0101-半导体用硅;0101-工业用人造石墨;0101-工业用石墨;0101-蓄电池用人造石墨;0102-工业用碳化硅;0102-碳化硅;0102-碳化硅（原材料）;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用炭黑 - 1999
- 2026-09-13
- 奥通碳素（内江）科技有限公司
- 四川省内江市东兴区科创路7号
- 成都高锦道知识产权代理事务所（普通合伙）
2026-08-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-06-25 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-09-13 第1999期 查看公告
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- 2026-06-25
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业用石墨,
0101-蓄电池用人造石墨,
0102-工业用碳化硅,
0102-碳化硅,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用炭黑
0101-半导体用硅;0101-工业用人造石墨;0101-工业用石墨;0101-蓄电池用人造石墨;0102-工业用碳化硅;0102-碳化硅;0102-碳化硅（原材料）;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用炭黑 - 1999
- 2026-09-13
- 奥通碳素（内江）科技有限公司
- 四川省内江市东兴区科创路7号
- 成都高锦道知识产权代理事务所（普通合伙）
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