【联合富士】商标详情
- 联合富士
- 84200932
- 已初审
- 普通商标
- 2025-03-21
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0108 , 0111 , 0112 , 0115 0101-半导体用硅,
0102-硅烷,
0103-科学用放射性元素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0108-增塑剂,
0111-金属退火剂,
0112-焊接用化学品,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0102-硅烷;0103-科学用放射性元素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0108-增塑剂;0111-金属退火剂;0112-焊接用化学品;0115-工业用黏合剂 - 1951
- 2025-09-13
- 联合富士半导体有限公司
- 广东省深圳市************
- 广东深天成律师事务所
2025-07-12 商标注册申请 | 驳回通知发文
2025-04-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-03-21 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-09-13 第1951期 查看公告
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- 2025-03-21
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0108 , 0111 , 0112 , 0115 0101-半导体用硅,
0102-硅烷,
0103-科学用放射性元素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0108-增塑剂,
0111-金属退火剂,
0112-焊接用化学品,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0102-硅烷;0103-科学用放射性元素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0108-增塑剂;0111-金属退火剂;0112-焊接用化学品;0115-工业用黏合剂 - 1951
- 2025-09-13
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2025-04-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-03-21 商标注册申请 | 申请收文
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