【图形】商标详情
- 图形
- 78967256
- 待审中
- 普通商标
- 2024-05-31
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0102-有机金属化合物,
0102-硫酸铜,
0102-金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0101-半导体用硅;0102-有机金属化 合物;0102-硫酸铜;0102-金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 浙江新盈电子材料有限公司
- 浙江省湖州市************
- 上海弼兴知识产权代理有限公司
2024-09-06 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-06-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-31 商标注册申请 | 申请收文
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0102-有机金属化合物,
0102-硫酸铜,
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0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0101-半导体用硅;0102-有机金属化合物;0102-硫酸铜;0102-金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 浙江新盈电子材料有限公司
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