【SPECTRA】商标详情
- SPECTRA
- G1084154
- 已注册
- 普通商标
- 2011-08-06
0101 0101-商业用高纯度和特殊气体和气体混合物,即,电子和半导体生产用气体,用于工业、技、研究以及科学的气体,尤其是检验气体,校准气体和检测气体,防护气体和屏蔽气体,反应气体和活性气体,包括焊接,切割气体以及净化气体,包括加工气体,处理和作业气体,材料处理和机加工的气体,电子生产和加工工艺用气体,尤其是清洁气体,氮,氧气,二氧化碳和一氧化碳,氨水以及饱和不饱和碳氢化合物气体,碳氢化合物混合物,氢,贵重气体,同位素气体以及各种类型的特殊气体介质,比如氧化氮,氨水和硫磺混合物,硅烷,氢复合物,挥发 性的有机复合物,
0101-所有上述产品均属本类,
0101-氯和氟以及含有氯和氟的气体复合物,氮化合物,臭氧,卤素,卤素复合物,单体硼,硅和硫磺复合物,以及上述各种气体的混合物
0101-商业用高纯度和特殊气体和气体混合物,即,电子和半导体生产用气体,用于工业、技、研究以及科学的气体,尤其是检验气体,校准气体和检测气体,防护气体和屏蔽气体,反应气体和活性气体,包括焊接,切割气体以及净化气体,包括加工气体,处理和作业气体,材料处理和机加工的气体,电子生产和加工工艺用气体,尤其是清洁气体,氮,氧气,二氧化碳和一氧化碳,氨水以及饱和不饱和碳氢化合物气体,碳氢化合物混合物,氢,贵重气体,同位素气体以及各种类型的特殊气体介质,比如氧化氮,氨水和硫磺混合物,硅烷,氢复合物,挥发性的有机复合物;0101-所有上述产品均属本类;0101-氯和氟以及含有氯和氟的气体复合物,氮化合物,臭氧,卤素,卤素复合物,单体硼,硅和硫磺复合物,以及上述各种气体的混合物 - 2021-02-28-2031-02-28
- Linde GmbH
- 巴伐利亚普拉赫************
- 国际局
2021-04-13 国际续展 | 申请核准审核
2021-04-04 国际续展 | 申请收文
2014-02-27 商标注册申请 | 驳回复审完成
2013-11-11 商标注册申请 | 驳回复审完成
2012-06-06 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2012-06-06 商标注册申请 | 驳回复审中
2012-06-06 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2012-03-30 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2012-03-30 领土延伸 | 审查
2011-08-06 商标注册申请 | 领土延伸中
2011-08-06 领土延伸 | 申请收文
- SPECTRA
- G1084154
- 已注册
- 普通商标
- 2011-08-06
0101 0101-商业用高纯度和特殊气体和气体混合物,即,电子和半导体生产用气体,用于工业、技、研究以及科学的气体,尤其是检验气体,校准气体和检测气体,防护气体和屏蔽气体,反应气体和活性气体,包括焊接,切割气体以及净化气体,包括加工气 体,处理和作业气体,材料处理和机加工的气体,电子生产和加工工艺用气体,尤其是清洁气体,氮,氧气,二氧化碳和一氧化碳,氨水以及饱和不饱和碳氢化合物气体,碳氢化合物混合物,氢,贵重气体,同位素气体以及各种类型的特殊气体介质,比如氧化氮,氨水和硫磺混合物,硅烷,氢复合物,挥发性的有机复合物,
0101-所有上述产品均属本类,
0101-氯和氟以及含有氯和氟的气体复合物,氮化合物,臭氧,卤素,卤素复合物,单体硼,硅和硫磺复合物,以及上述各种气体的混合物
0101-商业用高纯度和特殊气体和气体混合物,即,电子和半导体生产用气体,用于工业、技、研究以及科学的气体,尤其是检验气体,校准气体和检测气体,防护气体和屏蔽气体,反应气体和活性气体,包括焊接,切割气体以及净化气体,包括加工气体,处理和作业气体,材料处理和机加工的气体,电子生产和加工工艺用气体,尤其是清洁气体,氮,氧气,二氧化碳和一氧化碳,氨水以及饱和不饱和碳氢化合物气体,碳氢化合物混合物,氢,贵重气体,同位素气体以及各种类型的特殊气体介质,比如氧化氮,氨水和硫磺混合物,硅烷,氢复合物,挥发性的有机复合物;0101-所有上述产品均属本类;0101-氯和氟以及含有氯和氟的气体复合物,氮化合物,臭氧,卤素,卤素复合物,单体硼,硅和硫磺复合物,以及上述各种气体的混合物 - 2021-02-28-2031-02-28
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- 国际局
2021-04-13 国际续展 | 申请核准审核
2021-04-04 国际续展 | 申请收文
2014-02-27 商标注册申请 | 驳回复审完成
2013-11-11 商标注册申请 | 驳回复审完成
2012-06-06 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2012-06-06 商标注册申请 | 驳回复审中
2012-06-06 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2012-03-30 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2012-03-30 领土延伸 |