【HSIC】商标详情
- HSIC
- 82154652
- 已注册
- 普通商标
- 2024-11-25
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业硅,
0102-二氧化硅,
0102-硅微粉,
0102-碳化硅（原材料）,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质
0101-半导体用硅;0101-工业用人造石墨;0101-工业硅;0102-二氧化硅;0102-硅微粉;0102-碳化硅（原材料）;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质 - 1925
- 2025-02-27
- 1937
- 2025-05-28
- 2025-05-28-2035-05-27
- 浙江吉成新材股份有限公司
- 浙江省衢州市************
- 长沙国科君荣知识产权服务有限公司
2025-06-20 商标注册申请 | 注册证发文
2024-12-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-11-25 商标注册申请 | 申请收文
2024-11-25 00:00:00 商标注册申请 | 申请收文
- HSIC
- 82154652
- 已注册
- 普通商标
- 2024-11-25
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业硅,
0102-二氧化硅,
0102-硅微粉,
0102-碳化硅（原材料）,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质
0101-半导 体用硅;0101-工业用人造石墨;0101-工业硅;0102-二氧化硅;0102-硅微粉;0102-碳化硅（原材料）;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质 - 1925
- 2025-02-27
- 1937
- 2025-05-28
- 2025-05-28-2035-05-27
- 浙江吉成新材股份有限公司
- 浙江省衢州市************
- 长沙国科君荣知识产权服务有限公司
2025-06-20 商标注册申请 | 注册证发文
2024-12-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-11-25 商标注册申请 | 申请收文
2024-11-25 00:00:00 商标注册申请 | 申请收文
