【同感设计】商标详情
- 同感设计
- 46418143
- 已驳回
- 普通商标
- 2020-05-18
0913 -16/14纳米硅刻蚀设备,
-28纳米硅刻蚀设备,
-中微半导体的介质刻蚀设备,
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-光刻机,
-光刻机(掩模对准曝光机器),
-光刻机（掩模对准曝光机）,
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-各种介质刻蚀设备,
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0913-半导体设备
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- 山东省日照市************
- 邮寄办理
2021-04-02 驳回复审 | 申请收文
2021-03-31 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-03-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-02-06 商标注册申请 | 等待补正回文
2021-02-06 商标注册申请 | 补正回文
2021-02-02 商标注册申请 | 补正通知发文
2020-11-22 商标注册申请 | 等待补正回文
2020-11-22 商标注册申请 | 补正回文
2020-11-17 商标注册申请 | 补正通知发文
2020-07-25 商标注册申请 | 等待补正回文
2020-07-25 商标注册申请 | 补正回文
2020-07-21 商标注册申请 | 补正通知发文
2020-05-18 商标注册申请 | 申请收文
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