【至微】商标详情
- 至微
- 81601006
- 待审中
- 普通商标
- 2024-10-25
4209 , 4211 , 4214 4209-为他人研究和开发新产品,
4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体设计,
4209-微芯片设计服务,
4209-机械研究,
4209-物理研究,
4209-硅光芯片制造技术研究,
4209-集成电路设计,
4211-化学分析,
4214-产品测试
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- 上海章简合知识产权服务有限公司
2024-11-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-10-25 商标注册申请 | 申请收文
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4209-半导体加 工技术研究,
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4209-集成电路设计,
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4209-为他人研究和开发新产品;4209-半导体加工技术研究;4209-半导体设计;4209-微芯片设计服务;4209-机械研究;4209-物理研究;4209-硅光芯片制造技术研究;4209-集成电路设计;4211-化学分析;4214-产品测试 - 上海至纯洁净系统科技股份有限公司
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