【C.DIFF】商标详情
- C.DIFF
- G1721499
- 待审中
- 普通商标
- 2023-03-30
0717 , 0729 , 0744 , 0751 0717-太阳能电池或半导体加工机器,
0729-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）,
0729-氧化设备，即用于在表面上形成氧化层的表面处理机器,
0744-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）,
0744-太阳能电池或半 导体加工机器,
0744-用于半导体表面（尤指借助常压和亚常压气相沉积的半导体晶片）的表面处理机器,
0751-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）
0717-太阳能电池或半导体加工机器;0729-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）;0729-氧化设备，即用于在表面上形成氧化层的表面处理机器;0744-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）;0744-太阳能电池或半导体加工机器;0744-用于半导体表面（尤指借助常压和亚常压气相沉积的半导体晶片）的表面处理机器;0751-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备） - 2023-01-31-2033-01-31
- CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
2023-10-15 领土延伸 | 驳回电子发文
2023-03-30 商标注册申请 | 申请收文
2023-03-30 领土延伸 | 申请收文
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0717 , 0729 , 0744 , 0751 0717-太阳能电池或半导体加工机器,
0729-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）,
0729-氧化设备，即用于在表面上形成氧化层的表面处理机器,
0744-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）,
0744-太阳能电池或半导体加工机器,
0744-用于半导体表面（尤指借助常压和亚常压气相沉积的半导体晶片）的表面处理机器,
0751-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加 工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）
0717-太阳能电池或半导体加工机器;0729-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）;0729-氧化设备，即用于在表面上形成氧化层的表面处理机器;0744-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备）;0744-太阳能电池或半导体加工机器;0744-用于半导体表面（尤指借助常压和亚常压气相沉积的半导体晶片）的表面处理机器;0751-借助气相沉积进行半导体表面处理的热处理或生产加工用设备和装置，即涂层设备、真空钎焊机器、化学气相沉积设备（CVD设备）以及热处理设备（扩散设备） - 2023-01-31-2033-01-31
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- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
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