【COMPLUS】商标详情
- COMPLUS
- G1814509
- 待审中
- 普通商标
- 2024-10-10
0910 0910-用于检查晶片的暗场缺陷（包括颗粒、划痕和隆起）半导体晶片检查系统，即用于检查半导体晶片的检查机
0910-用于检查晶片的暗场缺陷（包括颗粒、划痕和隆起）半导体晶片检查系统，即用于检查半导体晶片的检查机 - APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2025-04-06 驳回复审 | 申请收文
2025-04-05 驳回复审 | 申请收文
2025-03-26 领土延伸 | 驳回电子发文
2024-10-10 领土延伸 | 申请收文
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- 待审中
- 普通商标
- 2024-10-10
0910 0910-用于检查晶片的暗场缺陷（包括颗粒、划痕和隆起）半导体晶片检查系统，即用于检查半导体晶片的检查机
0910-用于检查晶片的暗场缺陷（包括颗粒、划痕和隆起）半导体晶片检查系统，即用于检查半导体晶片的检查机 - APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
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2025-04-06 驳回复审 | 申请收文
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