
【SELEQT】商标详情

- SELEQT
- G1442152
- 待审中
- 普通商标
- 2019-01-03
0729 , 0744 , 0749 , 0750 , 0754 0729-上述均不属别类,
0729-以及上述所有商品的零部件和配件,
0729-化学沉积设备,
0729-用于开发和生产半导体装置的金属和化学气相沉积设备,
0729-蒸发设备,
0744-上述均不属别类,
0744-以及上述所有商品的零部件和配件,
0744-半导体、MEMS和薄膜制造机,包括等离子发生器,
0744-半导体晶片的处理、加工或制造设备,
0744-半导体材料处理用设备,
0744-半导体装置制造用设备,
0744-溅射设备,
0744-用于处理和存储半导体晶片的设备,
0744-用于开发和生产半导体装置的金属和化学气相沉积设备,
0744-用于蚀刻半导体晶片的半导体加工机械,
0744-等离子体或反应离子蚀刻设备,
0744-等离子蚀刻机,
0744-蚀刻半导体材料用设备,
0744-蚀刻和沉积设备台,
0744-蚀刻基板用设备,
0744-蚀刻机,
0749-上述均不属别类,
0749-以及上述所有商品的零部件和配件,
0749-泵,
0749-阀门,
0750-上述均不属别类,
0750-以及上述所有商品的零部件和配件,
0750-真空室,
0754-上述均不属别类,
0754-以及上述所有商品的零部件和配件,
0754-电镀设备
0729-上述均不属别类;0729-以及上述所有商品的零部件和配件;0729-化学沉积设备;0729-用于开发和生产半导体装置的金属和化学气相沉积设备;0729-蒸发设备;0744-上述均不属别类;0744-以及上述所有商品的零部件和配件;0744-半导体、MEMS和薄膜制造机,包括等离子发生器;0744-半导体晶片的处理、加工或制造设备;0744-半导体材料处理用设备;0744-半导体装置制造用设备;0744-溅射设备;0744-用于处理和存储半导体晶片的设备;0744-用于开发和生产半导体装置的金属和化学气相沉积设备;0744-用于蚀刻半导体晶片的半导体加工机械;0744-等离子体或反应离子蚀刻设备;0744-等离子蚀刻机;0744-蚀刻半导体材料用设备;0744-蚀刻和沉积设备台;0744-蚀刻基板用设备;0744-蚀刻机;0749-上述均不属别类;0749-以及上述所有商品的零部件和配件;0749-泵;0749-阀门;0750-上述均不属别类;0750-以及上述所有商品的零部件和配件;0750-真空室;0754-上述均不属别类;0754-以及上述所有商品的零部件和配件;0754-电镀设备 - 2018-02-05-2028-02-05
- SPTS TECHNOLOGIES LIMITED
- 怀特岛纽波特************
- 国际局
2019-05-14 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2019-05-14 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-01-03 商标注册申请 | 申请收文
2019-01-03 领土延伸 | 申请收文
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0729 , 0744 , 0749 , 0750 , 0754 0729-上述均不属别类,
0729-以及上述所有商品的零部件和配件,
0729-化学沉积设备,
0729-用于开发和生产半导体装置的金属和化学气相沉积设备,
0729-蒸发设备,
0744-上述均不属别类,
0744-以及上述所有商品的零部件和配件,
0744-半导体、MEMS和薄膜制造机,包括等离 子发生器,
0744-半导体晶片的处理、加工或制造设备,
0744-半导体材料处理用设备,
0744-半导体装置制造用设备,
0744-溅射设备,
0744-用于处理和存储半导体晶片的设备,
0744-用于开发和生产半导体装置的金属和化学气相沉积设备,
0744-用于蚀刻半导体晶片的半导体加工机械,
0744-等离子体或反应离子蚀刻设备,
0744-等离子蚀刻机,
0744-蚀刻半导体材料用设备,
0744-蚀刻和沉积设备台,
0744-蚀刻基板用设备,
0744-蚀刻机,
0749-上述均不属别类,
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0749-泵,
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0750-真空室,
0754-上述均不属别类,
0754-以及上述所有商品的零部件和配件,
0754-电镀设备
0729-上述均不属别类;0729-以及上述所有商品的零部件和配件;0729-化学沉积设备;0729-用于开发和生产半导体装置的金属和化学气相沉积设备;0729-蒸发设备;0744-上述均不属别类;0744-以及上述所有商品的零部件和配件;0744-半导体、MEMS和薄膜制造机,包括等离子发生器;0744-半导体晶片的处理、加工或制造设备;0744-半导体材料处理用设备;0744-半导体装置制造用设备;0744-溅射设备;0744-用于处理和存储半导体晶片的设备;0744-用于开发和生产半导体装置的金属和化学气相沉积设备;0744-用于蚀刻半导体晶片的半导体加工机械;0744-等离子体或反应离子蚀刻设备;0744-等离子蚀刻机;0744-蚀刻半导体材料用设备;0744-蚀刻和沉积设备台;0744-蚀刻基板用设备;0744-蚀刻机;0749-上述均不属别类;0749-以及上述所有商品的零部件和配件;0749-泵;0749-阀门;0750-上述均不属别类;0750-以及上述所有商品的零部件和配件;0750-真空室;0754-上述均不属别类;0754-以及上述所有商品的零部件和配件;0754-电镀设备 - 2018-02-05-2028-02-05
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