【LINKERMEN】商标详情
- LINKERMEN
- 75256111
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-17
0102 , 0104 , 0108 , 0115 0102-碱,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-化学物质制过滤材料,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0108-未加工丙烯酸树脂,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂,
0115-导电胶 黏剂,
0115-工业用合成树脂制黏合剂,
0115-工业用橡胶胶黏剂,
0115-工业用粘合剂和胶水,
0115-工业用聚氨酯胶黏剂,
0115-工业用胶,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0102-碱;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-化学物质制过滤材料;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0108-未加工丙烯酸树脂;0108-未加工合成树脂;0108-未加工的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂;0115-导电胶黏剂;0115-工业用合成树脂制黏合剂;0115-工业用橡胶胶黏剂;0115-工业用粘合剂和胶水;0115-工业用聚氨酯胶黏剂;0115-工业用胶;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 1874
- 2024-02-06
- 1886
- 2024-05-07
- 2024-05-07-2034-05-06
- 杭州福斯特应用材料股份有限公司
- 浙江省杭州市************
- 北京万慧达知识产权代理有限公司
2024-05-31 商标注册申请 | 注册证发文
2023-12-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-11-17 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-17
0102 , 0104 , 0108 , 0115 0102-碱,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-化学物质制过滤材料,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0108-未加工丙烯酸树脂,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂,
0115-导电胶黏剂,
0115-工业用合成树脂制黏合剂,
0115-工业用橡胶胶黏剂,
0115-工业用粘合剂和 胶水,
0115-工业用聚氨酯胶黏剂,
0115-工业用胶,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0102-碱;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-化学物质制过滤材料;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0108-未加工丙烯酸树脂;0108-未加工合成树脂;0108-未加工的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂;0115-导电胶黏剂;0115-工业用合成树脂制黏合剂;0115-工业用橡胶胶黏剂;0115-工业用粘合剂和胶水;0115-工业用聚氨酯胶黏剂;0115-工业用胶;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 1874
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