【NEOEE】商标详情
- NEOEE
- 7846569
- 已注册
- 普通商标
- 2009-11-19
4209 , 4214 4209-制造集成电路的技术与工艺的研究开发(替他人),
4209-制造集成电路的技术研究,
4209-半导体晶片及集成电路的设计,
4214-半导体晶片及集成电路的测试,
4214-集成电路设计的测试分析
4209-制造集成电路的技术与工艺的研究开发(替他人);4209-制造集成电路的技术研究;4209-半导体晶片及集成电路的设计;4214-半导体晶片及集成电路的测试;4214-集成电路设计的测试分 析 - 1236
- 2010-10-20
- 1248
- 2011-01-21
- 2021-01-21-2031-01-20
- 力旺电子股份有限公司
- 台湾省************
- 北京巨京知识产权代理有限公司
2020-09-01 商标续展 | 核准通知打印发送
2020-08-08 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2020-07-25 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
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2020-07-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
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2011-02-10 商标注册申请 | 打印注册证
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4209 , 4214 4209-制造集成电路的技术与工艺的研究开发(替他人),
4209-制造集成电路的技术研究,
4209-半导体晶片及集成电路的设计,
4214-半导体晶片及集成电路的测试,
4214-集成电路设计的测试分析
4209-制造集成电路的技术与工艺的研究开发(替他人);4209-制造集成电路的技术研究;4209-半导体晶片及集成电路的设计;4214-半导体晶片及集成电路的测试;4214-集成电路设计的测试分析 - 1236
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