【HAPTIQ SYSTEM】商标详情
- HAPTIQ SYSTEM
- G1715144
- 待审中
- 普通商标
- 2023-02-23
0113 -制护发、染发和头发造型用化妆制剂的活性化学成分,
0113-制护发、染发和头发造型用化妆制剂的活性化学成分
-制护发、染发和头发造型用化妆制剂的活性化学成分;0113-制护发、染发和头发造型用化妆制剂的活性化学成分 - 2023-01-09-2033-01-09
- HENKEL AG & CO. KGAA
- 北莱茵-威斯特法伦杜塞尔多夫************
2023-08-10 领土延伸 | 驳回电子发文
2023-02-23 商标注册申请 | 申请收文
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- 待审中
- 普通商标
- 2023-02-23
0113 -制护发、染发和头发造型用化妆制剂的活性化学成分,
0113-制护发、染发和头发造型用化妆制剂的活性化学成分
-制护发、染发和头发造型用化妆制剂的活性化学成分;0113-制护发、染发和头发造型用化妆制剂的活性化学成分 - 2023-01-09-2033-01-09
- HENKEL AG & CO. KGAA
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