【JUGN】商标详情
- JUGN
- 71037610
- 已注册
- 普通商标
- 2023-04-20
0102 , 0104 0102-冰晶石,
0102-工业用金属氧化物粉末,
0102-氮氧化物,
0102-硫化锌,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-光触媒,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-搪瓷着色化学品,
0104-搪瓷遮光剂,
0104-玻璃着色化学品,
0104-玻璃遮光剂,
0104-金属电镀用化学成分
0102-冰晶石;0102-工业用金属氧化物粉末;0102-氮氧化物;0102-硫化锌;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-光触媒;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用抗静电制剂;0104-搪瓷着色化学品;0104-搪瓷遮光剂;0104-玻璃着色化学品;0104-玻璃遮光剂;0104-金属电镀用化学成分 - 1854
- 2023-09-06
- 1866
- 2023-12-07
- 2023-12-07-2033-12-06
- 巨玻固能（苏州）薄膜材料有限公司
- 江苏省苏州市************
- 苏州创智高诺知识产权代理有限公司
2024-01-04 商标注册申请 | 注册证发文
2023-05-13 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-04-20 商标注册申请 | 申请收文
- JUGN
- 71037610
- 已注册
- 普通商标
- 2023-04-20
0102 , 0104 0102-冰晶石,
0102-工业用金属氧化物粉末,
0102-氮氧化物,
0102-硫化锌,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-光触媒,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-搪瓷着色化学品,
0104-搪瓷遮光剂,
0104-玻璃着色化学品,
0104-玻璃遮光剂,
0104-金属电镀用化学成分
0102-冰晶石;0102-工业用金属氧化物粉末;0102-氮氧化物;0102-硫化锌;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-光触媒;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用抗静电制剂;0104-搪瓷着色化学品;0104-搪瓷遮光剂;0104-玻璃着色化学品;0104-玻璃遮光 剂;0104-金属电镀用化学成分 - 1854
- 2023-09-06
- 1866
- 2023-12-07
- 2023-12-07-2033-12-06
- 巨玻固能（苏州）薄膜材料有限公司
- 江苏省苏州市************
- 苏州创智高诺知识产权代理有限公司
2024-01-04 商标注册申请 | 注册证发文
2023-05-13 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-04-20 商标注册申请 | 申请收文
