【DESHAN】商标详情
- DESHAN
- 10432195
- 已注册
- 普通商标
- 2012-01-17
0102 , 0104 0102-工业用二氧化硅,
0102-工业用氮化铝,
0102-有机卤化物,
0102-氯化物,
0102-环氧丙烷,
0102-盐类(化学制剂),
0102-碱,
0104-集成电路、半导体器件及其他电子元件生产用光致抗蚀剂
0102-工业用二氧化硅;0102-工业用氮化铝;0102-有机卤化物;0102-氯化物;0102-环氧丙烷;0102-盐类(化学制剂);0102-碱;0104-集成电路、半导体器件及其他电子元件生产用光致抗蚀剂 - 1355
- 2013-04-13
- 1367
- 2013-07-14
- 2023-07-14-2033-07-13
- 株式会社德山
- 山口周南市************
- 北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）
2023-05-06 商标续展 | 核准通知打印发送
2023-04-22 商标续展 | 申请收文
2013-08-02 商标注册申请 | 打印注册证
2013-01-07 商标注册申请 | 打印驳回通知
2012-09-24 商标注册申请 | 等待补正回文
2012-09-24 商标注册申请 | 补正收文
2012-02-06 商标注册申请 | 打印受理通知
2012-01-17 商标注册申请 | 申请收文
- DESHAN
- 10432195
- 已注册
- 普通商标
- 2012-01-17
0102 , 0104 0102-工业用二氧化硅,
0102-工业用氮化铝,
0102-有机卤化物,
0102-氯化物,
0102-环氧丙烷,
0102-盐类(化学制剂),
0102-碱,
0104-集成电路、半导体器件及其他电子元件生产用光致抗蚀剂
0102-工业用二氧化硅;0102-工业用氮化铝;0102-有机卤化物;0102-氯化物;0102-环氧丙烷;0102-盐类(化学制剂);0102-碱;0104-集成电路、半导体器件及其他电子元件生产用光致抗蚀剂 - 1355
- 2013-04-13
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- 2013-07-14
- 2023-07-14-2033-07-13
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