
【】商标详情

- 94142171
- 待审中
- 普通商标
- 2026-09-21
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造用光刻机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-电子工业设备,
0744-等离子刻蚀机
0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造机;0744-半导体制造用光刻机;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-电子工业设备;0744-等离子刻蚀机 - 科磊公司
- 美国加利福尼亚州米尔比塔斯市科技大道一号邮区*****
- 北京律盟知识产权代理有限责任公司
2026-10-08 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-09-21 商标注册申请 | 申请收文
- 94142171
- 待审中
- 普通商标
- 2026-09-21
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造用光刻机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-电子工业设备,
0744-等离子刻蚀机
0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造机;0744-半导体制造用光刻机;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-电子工业设备;0744-等离子刻蚀机 - 科磊公司
- 美国加利福尼亚州米尔比塔斯市科技大道一号邮区*****
- 北京律盟知识产权代理有限责任公司
2026-10-08 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-09-21 商标注册申请 | 申请收文


